Blender標準テクニック[ローポリキャラクター制作で学ぶ3DCG]を試す その７３（ベイクの下準備）

本日は書籍「Blender標準テクニック[ローポリキャラクター制作で学ぶ3DCG]」の実施枠です。

Blender標準テクニック ローポリキャラクター制作で学ぶ3DCG

本日から「テクスチャの作成」に着手します。

本日はまず、テクスチャの焼き込み作業である「ベイク」の下準備です。

まずはキャラクターのポーズを以下のような両手、両足、ツインテールを持ち上げたポーズに変更します。
これは以前設定した「アンビエントオクルージョン」の効果によって、面同士が接近し、狭い場所に影が落ちるのを避けるためです。

次に各メッシュオブジェクトを選択し、「プロパティ」ウィンドウの「モディファイア」画面を開きます。
「追加」から「細分割曲面」モディファイアを選択して追加します。

「細分割曲面」モディファイアを追加したら「△」ボタンをクリックし、これをモディファイアの最上部に移動します。
更に「UVを細分化」のチェックを外しておきます。

同様の操作を全てのメッシュオブジェクトに実行します。

次にランプオブジェクトの配置を行います。
まず、ランプオブジェクトのパラメータを以下のように設定します。
・種類：スポット
・エネルギー：0.5
・減衰：一定
・距離：30.000
・チェック：スペキュラー、ディフューズ
プロジェクト内にランプオブジェクトがない場合は、追加 -> ランプ -> スポット で追加します。

設定したランプを７個クローン複製(Alt+Dキー)し、合計８個のランプオブジェクトを配置していきます。
このとき、事前に3DカーソルをShift+Cキーで中心に戻し、「ピボットポイント」を「3Dカーソル」にしておきます。
こうすることで、R+Z+45入力（Z軸方向に45度回転）で簡単にランプをキャラクタの周囲に配置できます。

ランプを配置すべき場所について、書籍データを元に書き出しました。
凡そ以下の通り、配置されていれば問題ありません。

・ランプ１
　　位置 X:0.000  Y:-12.63 Z:1.81
　　回転 X:88°   Y:0°    Z:0°
・ランプ２
　　位置 X:0.000  Y:12.63  Z:1.81
　　回転 X:88°   Y:0°    Z:-180°
・ランプ３
　　位置 X:12.63  Y:0.000  Z:1.81
　　回転 X:88°   Y:0°    Z:-270°
・ランプ４
　　位置 X:-12.63 Y:0.000  Z:1.81
　　回転 X:88°   Y:0°    Z:-90°
・ランプ５
　　位置 X:-8.12  Y:9.68   Z:1.81
　　回転 X:88°   Y:0°    Z:-140°
・ランプ６
　　位置 X:8.12   Y:-9.68  Z:1.81
　　回転 X:88°   Y:0°    Z:-320°
・ランプ７
　　位置 X:8.12   Y:9.68   Z:1.81
　　回転 X:88°   Y:0°    Z:-230°
・ランプ８
　　位置 X:-8.12  Y:-9.68  Z:1.81
　　回転 X:88°   Y:0°    Z:-50°

ランプを配置したら「レンダー」表示に切り替えてレンダリング結果の見栄えを確認します。
何処から見ても見栄えがよくなるようにランプの位置やエネルギー量を調整して完了です。

最後に、顔マテリアルの頬の赤みを反映しないようにおきます。
これは頬の赤みについてはテクスチャに反映させたくないためです。
「カラーランプ」nodeの「カラー」出力端子を直接「出力」ノードに繋いでおきます。

以上でベイクの下準備は完了です。